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Intel公布新材料处理器功耗有望降90

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来源: 作者: 2019-03-11 00:02:12

今天,Intel 对外公布了一种全新的处理器制作材料 P Channel 及 N-Channel 晶体管组合。得益于此,采用这种材料制成的处理器有望大幅降低处理器的功耗,是目前处理器功耗的十分之一,而且效能也将有所提升,系统体积也可进一步缩少。

在Intel最新的研究报告中透露了有关P-Channel Transistor 的资料,这是一种复合半导体,也称为 III-V 物料,因为它就是硅晶体周期表的列于第四周期表中,据研究指出它拥有极高的效率及极低电阻表现,而 Intel早前于透露了采用 III-V 物料的 N-Channel Tranistsor ,同样将会使用在处理器制程技术上。

据Intel 称,当P-Channel Transistor及N-Channel Transistor复合应用后,所制造出的 CMOS 逻辑芯片比传统物料相比,可减低一半的电压,而且功耗更可降低至口金只有十分之一。此研发创新技术将会用于处理器量产用,将可令处理器效率进一步提高,容许更复杂的设计及减低了因功耗而出现的散热问题,系统体积亦可进一步缩少。

目前,

Intel公布新材料处理器功耗有望降90

Intel已开始进行上述质材的量产可能性,希望可以在未来数年内实现创新。

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